技术与应用
TECHNOLOGY AND APPLICATION
PVD 是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积）的缩写，其中的一种是先进的弧源真空蒸发沉积技术。其原理是利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上，从而形成一种新的具有高硬度、低摩擦系数、高耐磨性和化学稳定性等优点的高性能膜层。PVD技术是环保的,对外部环境无任何污染，是新世纪最理想的表面处理技术。