MOCVD设备组成:真空沉积室、真空系统、基片台、CVD温场系统、等离

子体系统、工作气体系统、操作系统等;与我们批量生产的真空镀膜系统相比，

MOCVD设备不需要固体靶材，但是在气体系统、温场系统方面要求较为严格。

我们研制了MPCVD、ECR- CVD等CVD系统，用于制备CVD金刚石膜、类金刚石

膜等产品。研制了管式热CVD装备，用于LED器件基片薄膜沉积。广泛使用MO源，

用于LED、OLED等相关产品研发。MOCVD工艺: 利用MOCVD,制备LED芯片，并实

现工业化应用;利用PECVD,制备纳米金刚石光学薄膜;利用ECR-CVD,制备类金刚石薄膜;

我们能够根据用户的要求进行专门的设计、制造最先进实用的MOCVD设备。